С восторгом и трепетом представляем революционный прорыв Intel в области полупроводниковых технологий — процесс 14A (класс 1.4 нм), разработанный с нуля как для собственных нужд компании, так и для её литейных клиентов! Этот технологический шедевр, как сообщает Intel, превзойдёт по стоимости грядущий узел 18A, и всё благодаря использованию передовой литографической машины нового поколения от ASML — Twinscan EXE:5200B с оптикой высокой числовой апертуры (High-NA) 0.55.
«14A обойдётся дороже, чем 18A», — заявил Дэвид Зинснер, финансовый директор Intel, на конференции Citi’s 2025 Global TMT. «Инвестиции не столь значительно выше, но стоимость пластин определённо возрастает, в том числе из-за применения инструментов High-NA EUV, чего не было в случае с 18A». Это заявление подчёркивает амбициозный скачок Intel в будущее микроэлектроники!
Процесс 14A обещает ошеломляющие улучшения: прирост производительности на ватт на 15–20% или снижение энергопотребления на 25–35% по сравнению с 18A. В основе этого чуда лежит усовершенствованная структура транзисторов RibbonFET 2 с технологией gate-all-around и инновационная система PowerDirect, обеспечивающая прямое подключение силовых линий к истоку и стоку транзисторов.
Ключевым новшеством стали Turbo Cells — высокопроизводительные ячейки двойной высоты, оптимизирующие критические временные пути в плотных библиотеках стандартных ячеек, что позволяет увеличивать частоту CPU и GPU без значительных компромиссов по площади или энергопотреблению. Это подлинный триумф инженерной мысли!
Для реализации 14A Intel внедряет литографические системы нового поколения High-NA EUV от ASML, обеспечивающие разрешение 8 нм за одно экспонирование — впечатляющий скачок по сравнению с 13.5 нм у текущих систем Low-NA EUV. Хотя Low-NA системы могут достичь 8 нм с двойным экспонированием, это усложняет процесс и снижает выход годных чипов. High-NA EUV, несмотря на уменьшение поля экспонирования на 50%, требует от производителей чипов адаптации их проектных стратегий, но открывает новые горизонты точности.
Стоимость таких систем поражает воображение: если Low-NA EUV Twinscan NXE:3800E оценивается в $235 млн за единицу, то High-NA EUV Twinscan EXE:5200B обойдётся в $380 млн! Intel смело движется к раннему внедрению этой технологии для 14A, в то время как TSMC проявляет осторожность, что подчёркивает лидерство Intel в инновациях.
Современные фабрики для передовых техпроцессов стоят от $20 до $30 млрд в зависимости от мощности, так что добавление четырёх High-NA инструментов за $1.52 млрд едва ли существенно увеличит общую стоимость. Однако разработка 14A требует многомиллиардных инвестиций в исследования и разработки. В совокупности эти затраты делают 14A дороже 18A, и Intel Foundry необходимо привлечь внешних клиентов, чтобы оправдать такие вложения.
«Если мы не найдём внешних клиентов для 14A, будет сложно оправдать существование этого узла», — отметил Зинснер, подчёркивая, что Intel Products станет ключевым потребителем 14A, но общий спрос должен обеспечить разумную окупаемость для акционеров. Ранее в этом году Intel заявила, что без значительного клиента для 14A разработка может быть замедлена или вовсе прекращена, так как создание передового техпроцесса слишком дорого для одной компании.
Однако, учитывая обязательства перед правительством США, в рамках которых Intel конвертировала гранты в капитал, компания должна сохранить контроль над как минимум 51% Intel Foundry в течение ближайших пяти лет, чтобы не нарушить контракт. Таким образом, завершение разработки 14A и запуск производства на этом процессе становятся не просто амбицией, а стратегической необходимостью, закрепляющей Intel в авангарде мировой полупроводниковой индустрии!
Оригинал
Уникальность
