Китайская компания SMIC начала тестирование литографического оборудования DUV, разработанного стартапом Yuliangsheng из Шанхая.
Это первый шаг к снижению зависимости от импорта, особенно после запрета поставок таких систем в Китай из-за санкций США. Ранее SMIC и другие производители полупроводников полагались на нидерландскую ASML, чьи технологии подпадают под американский контроль.
Новое оборудование Yuliangsheng ориентировано на иммерсивную литографию и формально предназначено для производства 28-нм чипов. Однако SMIC рассчитывает использовать его для 7-нм решений с помощью многократной экспозиции, а при удачном стечении обстоятельств — даже для 5-нм. Пока не все компоненты производятся внутри страны, но компания работает над полной локализацией.
Результаты первых испытаний оказались обнадёживающими, однако для массового внедрения потребуется не менее года. SMIC планирует начать активное использование китайских DUV-сканеров не ранее 2027 года. Параллельно акционер Yuliangsheng, компания SiCarrier, ведёт ранние разработки EUV-оборудования, но до практического применения ещё далеко.
На фоне запрета поставок EUV-систем, Китай продолжает использовать ранее приобретённые DUV-машины ASML и стремится к технологической независимости в производстве чипов, включая процессоры для ИИ.
Источник
Уникальность
