На выставке WeSemiBay Semiconductor Ecosystem Expo 2025 в Шэньчжэне, Китай, которая проходила с 15 по 17 октября и собрала более 600 экспонентов и около 40 000 специалистов, ряд китайских компаний представили разработки в области полупроводников, подчеркивая усилия по достижению технологической независимости. Эта платформа, организованная при поддержке муниципалитета Шэньчжэня, фокусируется на сотрудничестве в цепочках поставок, инвестициях и обмене технологиями, отражая цели плана "Made in China 2025", где ставилась задача достичь 70% самообеспеченности в полупроводниках к 2025 году — цели, которую, по оценкам аналитиков (например, TrendForce, 2025), Китай, вероятно, не выполнит полностью, достигнув лишь около 50%.
Amies Technologies, спин-офф Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE), созданный в феврале 2025 года, продемонстрировала новый набор оборудования, включая литографический инструмент для производства составных полупроводников, таких как арсенид галлия (GaAs), нитрид галлия (GaN) и фосфид индия (InP), согласно South China Morning Post (SCMP, 2025).
Amies, специализирующаяся на широком спектре оборудования помимо литографии, показала также системы лазерного отжига, передовые инструменты контроля качества, а также решения для упаковки и склеивания пластин. Компания заявляет о поставке более 500 литографических степперов с момента основания, что вызывает вопросы, поскольку SMEE, находящаяся под санкциями США с 2022 года, традиционно сильна в бэк-энд процессах (например, упаковке), но ее передовые DUV-системы поддерживают узлы не ниже 90 нм, а заявка 2023 года о 28-нм машине была отозвана (Gartner, 2024). Эти инструменты Amies ориентированы на коммерциализацию, чтобы ускорить внедрение, в отличие от фокуса SMEE на фронт-энд разработках.
Подразделения SiCarrier, компании, основанной в 2021 году при поддержке правительства Шэньчжэня и тесно сотрудничающей с Huawei, представили инструменты электронного проектирования (EDA) и фоторезисты, которые, как утверждается, подходят для экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV), согласно DigiTimes (2025). SiCarrier, чья оценка превысила 65 млрд юаней к 2025 году, представила более дюжины продуктов, но без новых литографических инструментов от основной компании — все анонсы шли от дочерних структур.
Подразделение SiCarrier Qiyunfang Technology, основанное в 2023 году, представило две платформы EDA на основе отечественной интеллектуальной собственности: одну для захвата схем и другую для проектирования печатных плат (PCB). По утверждению компании, они на 30% эффективнее и сокращают циклы разработки на 40% по сравнению с решениями Cadence, Synopsys и Siemens EDA, поставляемыми в Китай (DigiTimes, 2025).
Эти инструменты совместимы с отечественными ОС, базами данных и middleware, и, по данным, уже используются более 20 000 инженерами. Однако уровень самообеспеченности Китая в EDA оценивается в 10–15% (SEMI, 2024; TrendForce, 2025), с лидерами вроде Empyrean, Primarius и Semitronix, которые пострадали от временных ограничений США в мае 2025 года (отменены в июле). Разработка EDA для узлов ниже 14 нм остается вызовом, и заявления о превосходстве требуют независимых бенчмарков, особенно учитывая, что глобальный рынок EDA на 90% контролируют американские и европейские фирмы.
Skyverse Technology, подразделение SiCarrier по материалам, представило фоторезист, якобы подходящий для EUV-производства, несмотря на отсутствие в Китае EUV-литографов ASML из-за экспортных ограничений США (BIS, 2023; обновлено в сентябре 2025 года). Патенты Skyverse (поданные в 2024–2025 годах) описывают составы на основе кластеров оксида олова с разрешением от 3 до 50 нм, но упоминают электронно-лучевую и DUV-экспозицию, а не EUV напрямую, что вызывает сомнения в применимости без соответствующего оборудования (IEEE, 2024).
Химия на основе олова соответствует EUV-стандартам (длина волны ~13,5 нм), но сравнение с фоторезистами JSR (лидер рынка с долей >90% в ArF/EUV) требует доказательств; в Китае локализация EUV-резистов <1% (отчет по фоторезистам, 2024). Нераскрытие имен изобретателей в патентах может указывать на государственную поддержку или участие институтов, таких как Huawei (патент на EUV-источник 2022 года) и SMEE (патент на EUV-генераторы 2023 года). Skyverse, частично государственная и добавленная в Entity List США в декабре 2024 года, фокусируется на тестировании, но заявляет о минимальном влиянии санкций благодаря подготовке.
Подразделение SiCarrier Long Sight (Longsight Technologies) представило осциллограф реального времени с частотой 90 ГГц, что в 4,5 раза превосходит предыдущие китайские модели (до 20 ГГц), обеспечивая анализ сигналов для техпроцессов 3 нм и 5 нм. Это устройство, протестированное в Huawei и Шанхайском университете Цзяотун, получило первую премию Китайского общества приборостроения в августе 2025 года за инновации в материалах, чипах и алгоритмах (Xinhua, 2025).
Оно полезно для SMIC и фабрик Huawei, но возможности SMIC в 3/5 нм ограничены санкциями (TSMC, 2024), а отсутствие сравнения с аналогами Keysight (до 110 ГГц) или Tektronix (до 70 ГГц) затрудняет оценку. Разрыв в высокоскоростных осциллографах (Китай <20 ГГц до 2025) был узким местом, и этот прорыв отражает междисциплинарные усилия, но реальные тесты на точность и шум пока не опубликованы.
Оригинал
Уникальность
