Хотя новые импортные тарифы, введенные администрацией Трампа, не облагают налогом импорт полупроводников, они облагают налогом импорт оборудования для производства пластин (WFE), произведенного за пределами США и используемого американскими чипмейкерами. В результате такие компании, как Intel, GlobalFoundries, Samsung Foundry и TSMC, будут вынуждены платить за оборудование для производства микросхем в США как минимум на 20 % больше, чем в других странах, что, вероятно, повлияет на цены на чипы, производимые в Америке.
Хотя американские компании Applied Materials, KLA и Lam Research контролируют около 50 % рынка инструментов для производства микросхем, оставшиеся 50 % занимают производители инструментов для фабрик из Китая, Европы, Японии, Южной Кореи и Тайваня. Американские чипмейкеры практически не используют инструменты, произведенные в Китае, но они, безусловно, используют оборудование для литографии, травления и осаждения, произведенное в ЕС, Японии, Южной Корее и Тайване.
С 9 апреля при покупке оборудования для производства полупроводников у компаний из этих стран им придется платить налог на импорт в размере от 20 до 32 % (в зависимости от происхождения оборудования), что неизбежно скажется на их затратах в США. Учитывая, что стоимость оборудования определяет стоимость чипов больше, чем что-либо другое, ожидайте ощутимого роста производственных затрат в Америке. Однако, если администрация Трампа введет дополнительные тарифы на чипы, произведенные в других странах, это несколько выровняет стоимость чипов, произведенных за рубежом и внутри страны.
Однако это не сделает чипы, произведенные в США, более конкурентоспособными на мировом рынке. 20%-ный налог на импорт инструментов для литографии, производимых компанией ASML, вероятно, окажет наибольшее влияние на американских чипмейкеров, поскольку у ASML нет конкурентов в США, когда речь идет о передовых инструментах для литографии с погружением DUV, а также о машинах для литографии с низким и высоким коэффициентом нагрева EUV и High-NA EUV.
Хотя 20-процентная ставка кажется скромной по сравнению с 54-процентными тарифами на китайский импорт, они применяются к чрезвычайно дорогостоящему оборудованию. Передовые погружные DUV (ArF) машины ASML, используемые для суб-10-нм процессов производства, стоят в среднем 82,5 миллиона долларов за единицу (по результатам 4 квартала FY2024), система Low-NA EUV стоит около 235 миллионов долларов в зависимости от конфигурации, а ее предстоящий инструмент High-NA EUV, как ожидается, будет стоить 380 миллионов долларов.
С учетом новых импортных пошлин эти же инструменты обойдутся американским чипмейкерам в 99 миллионов долларов за DUV-машину Twinscan серии NXT:2000i, 282 миллиона долларов за систему Twinscan NXE:3800E Low-NA EUV и 456 миллионов долларов за инструмент следующего поколения Twinscan EXE:5000 серии High-NA EUV. Примечательно, что ASML производит не только литографические сканеры, но и метрологические и инспекционные инструменты, которые также станут дороже для американских чипмейкеров.
Так, некоторые из электронно-лучевых инструментов ASML HMI eScan собираются на Тайване, и для американских покупателей они будут на 32 % дороже. Хорошей новостью является то, что ASML может расширить производство инструментов HMI в Сан-Хосе, Калифорния. Кроме того, есть и другие европейские производители оборудования для фабрик, такие как ASM International, выпускающая инструменты для атомно-слоевого осаждения (ALD) и эпитаксии, и Aixtron, производящая оборудование для осаждения составных полупроводников (GaN, SiC и т. д.), которые также производятся в США (такими компаниями, как Macom и X-Fab).
Что касается инструментов для очистки, нанесения покрытий, осаждения и травления, то на рынке довольно популярны инструменты таких японских компаний, как Tokyo Electron и Screen Holdings, и они станут на 24 % дороже для американских компаний. Учитывая, что оборудование для производства пластин из Европы и Азии только что подорожало для американских покупателей на 20-32 %, возникает естественный вопрос: можно ли заменить эти инструменты инструментами, произведенными в США. У ASML есть только два крупных конкурента - Canon и Nikon, которые базируются в Японии и в любом случае не производят EUV-системы или передовые DUV-сканеры, поэтому в обозримом будущем американским фабрикам придется платить за инструменты ASML на 20% больше.
Фактическое влияние инструментов ASML на производственные затраты будет зависеть от того, является ли конкретный продукт более литографически интенсивным (DRAM, логика) или интенсивным по травлению и осаждению (3D NAND). Что касается инструментов для очистки, нанесения покрытий, осаждения и травления, то Applied Materials, KLA и Lam Research создают оборудование мирового класса для этих этапов. Однако если в конкретную технологию и производственный процесс уже интегрирована определенная система от Tokyo Electron.
Оригинал
Уникальность
